« Terug

HEIDELBERG SAPHIRA THERMOPLATE CHEMFREE 101 & THERMOPLATE NA

 

SAPHIRA THERMOPLATE CHEMFREE 101

Negatieve thermische Ctp offsetplaat van de nieuwste generatie millieu vriendelijke drukplaten met uitmuntende prepress en press eigenschappen.

Wat is Saphira Thermoplate Chemfree 101?

De thermische chemie vrije plaat van het huismerk van Heidelberg. Bij de Saphira Chemfree plaat wordt evenals bij de Saphira NA plaat gebruik gemaakt van thermofuse technologie waarbij het beeld op deze negatief werkende offsetplaat wordt 'versmolten' met de geanodiseerde aluminium drager. De laag bestaat uit een negatief werkende thermofuse technologie. Niet versmolten beeld wordt met een cleaner gom weggespoeld in het enkelvoudig bad van een eenvoudige spoelunit. De clean-out gom is niet gevoelig voor temperatuurschommelingen. Slechts na 300 m2 dient de bus van 20L vervanging te worden.

Voordelen:

  • Millieu vriendelijke plaatproductie zonder ontwikkelaar of replenisher chemie
  • Snelle doorvoer
  • Optimale stabiliteit bij de plaatproductie
  • Fysische beeldvorming zonder ontwikkelaar
  • Zeer contrastrijk beeld op de plaat
  • Geen ontwikkeling op de pers
  • Excelente inkt/water balans
  • Korte inlooptijden
  • Compatibel met alcoholvrije fount solutions
  • Glunz&Jensen heeft hiervoor een specifieke wash unit CP85
  • Resolutie tot 30 mµ FM en 20 mµ Hybrid Screening Heidelberg

 

SAPHIRA THERMOPLATE NA

Vanaf heden kunnen we de bedrijven die grotere oplages en meer snelheid uit hun Suprasetter willen halen een nieuwe chemie arme plaat aanbieden.
(tussen 13 en 18 platen per uur)

Wat is Saphira Thermoplate NA?

De thermische chemie arme plaat van het huismerk van Heidelberg.
Bij de Thermoplate NA plaat wordt evenals bij de Saphira Chemfee 101 plaat gebruik gemaakt van thermofuse technologie waarbij het beeld op deze negatief werkende offsetplaat wordt 'versmolten' met de geanodiseerde aluminium drager. De laag bestaat bij deze NA plaat uit een verfijnde thermofuse technologie. Niet versmolten beeld wordt met een alkalische cleaner vloeistof weggewassen in het bad van een gewone ontwikkelmachine met spoel- en gom unit.                                                               De alkalische cleaner is ongevoelig voor temperatuurschommelingen, conductiviteitsdrops en snelle uitputting van het bad. Slechts na 4.000 m2 dient een reiniging en vervanging te gebeuren. (Bij lage volumes minimum drietal keer per jaar)

Voordelen:

  • Geen prestatieverlies aan de pers spijts het chemie arm concept.
  • Heidelberg Saphira Thermoplate NA Is ook UV inkt bestendig.
  • Kan gebakken worden en is geschikt voor alcoholvrij drukken.
  • De plaat is niet chemisch maar fysisch en dus ontwikkelvrij.
  • Hierdoor is ze perfect lineair en vrij van schommelingen in de chemicaliën en de plaatcurven.
  • Perfect voor standaardisatie.
  • Er is enkel een unit nodig met activator, water en dom. 
  • Glunz&Jensen heeft hiervoor een specifieke Heidelberg NA unit..
  • Capaciteit 5.000 m2 vooraleer de activator te vervangen.
  • Ook het wegvallen van maandelijks onderhoud en badwissels is een winstpunt om mee te rekenen. Het activator bad blijft helder.
  • Resolutie tot 30 mµ FM en 20 mµ Hybrid Screening Heidelberg.


Verwerking van de plaat voor klein volume off line met Suprasetter A52:
Thermoplate NA processor Interplater 88P of aanpassing van uw huidige plaatontwikkelmachine

Verwerking van de plaat voor normaal volume online met Suprasetter A75:
Raptor Heidelberg 85 NA met mechanische en electronische interface om volledig online te werken.